Mit dem Nachfolgemodell Photonic Professional GT2 bietet der auf die Mikrofabrikation spezialisierte 3D-Druckerhersteller Nanoscribe Lösungen für die additive Fertigung und maskenlose Lithografie. Dank optimierter Hard- und Softwarekomponenten sowie dem speziell für größere Volumina entwickelten Druckmaterial IP-Q können hochaufgelöste Mikrostrukturen bis zu einer Bauhöhe von 8 mm hergestellt werden.
Die Nanoscribe Systeme kombinieren die Technologie der Zwei-Photonen Polymerisation mit dem Workflow eines gängigen 3D-Druckprozesses. Dabei härtet ein ultrapräzise geführter Fokus eines Femtosekunden-Lasers ein fotosensitives Material Lage für Lage aus. In einem einfachen Workflow unterstützt eine speziell für den Druckprozess entwickelte Software den Import von CAD-Modellen mit umfangreichen Konfigurationsmöglichkeiten samt einer breiten Auswahl voreingestellter Parameter. Eine 3D-Vorschau sowie eine Livecam ermöglichen eine optimale Anpassung und Überwachung des Druckvorgangs.
Hersteller: Nanoscribe
Typ/Drucktechnologie: SLA
Markteinführung: 12/2018
Bausatz: Nein
Bauvolumen: 10 x 10 cm
Dual Extruder: Nein
Filamente: handelsübliche Fotolacke, Hydrogele und auch individuell hergestellte Materialien
Software: DeScribe, NanoWrite
Besonderheiten: 3D-Mikrodruck in Höchstgeschwindigkeit durch Galvotechnologie; 10-fach höhere Druckgeschwindigkeiten; besonders gut geeignet für Bereiche, wo großvolumige Strukturen im Millimeterbereich gebraucht werden, wie für mikrofluidische Elemente (Filter oder Düsen), für Lab-on-a-Chip Anwendungen oder beim Mikro Rapid Prototyping
